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規格皆可客製
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備註:
嶄新的模組更新，由內至外高完成度設備！
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特點:在顯像、蝕刻、剝離處理製程以敝公司開發的旋轉噴霧器對應，即使是細小圖案也能達到高蝕刻係數。藥水採用CuCl2、FeCl3、鹼液等。從厚板到極薄板都能以高精準度與可靠度形成超細微圖案。
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